■ 产品概述
产品概述：
二硅化钴（CoSi2）具有低电阻率，良好的热稳定性，目前在大规模集成电路中作为接触得到广泛使用,并且CoSi2有和Si相似的晶体结构，因此可以再Si衬底上形成外延CoSi2/Si结构，用来研究外延金属硅的界面特性。
性能特点：
1、纯度高：XRD检测无杂质相；
2、分布集中：粒度标准正态分布，无双峰或者多峰；
二硅化钴（CoSi2）具有低电阻率，良好的热稳定性，目前在大规模集成电路中作为接触得到广泛使用,并且CoSi2有和Si相似的晶体结构，因此可以再Si衬底上形成外延CoSi2/Si结构，用来研究外延金属硅的界面特性。
性能特点：
1、纯度高：XRD检测无杂质相；
2、分布集中：粒度标准正态分布，无双峰或者多峰；
■ 技术参数
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