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特种陶瓷烧结炉

  • 工作炉温: 1250~2400℃
  • 控温精度: ≤±5℃
  • 升温速度: 室温~2400℃,300分钟
  • 额定电源: 3相 AC380 50Hz
  • 极限真空度: ≤7.0×10-1/7.0×10-3Pa
  • 真空压升率: ≤0.67Pa/h
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用途:
    本系列特种陶瓷烧结炉是专门针对烧制碳化硅、氮化硅、氧化铝、氮化铝等陶瓷制品的脱胶和烧结而设计的,一道工序就可以完成脱除成型剂—脱气—真空烧结—充气—气氛烧结—冷却全过程,简化了生产工艺,大大提高了生产效率。炉内可适应多种气氛。
特点:
1、均匀的加热、可靠的隔热及测温:

    合理的热场设计,优良的材质,品牌测控温元件,保证真空状态下炉温的均匀性。
采用六角棱形隔热屏,可使真空炉体成小型,减少气体量及电力的使用,达到降低运行成本的目的。
2、超强的脱蜡、收蜡、清蜡效果:
    采用我司特殊的气氛控制方式,脱蜡时的蜡挥发物不会粘着在炉壁及隔热层,而是直接被排出炉外,防止污染,特适用粘结剂含量多的处理。专用脱胶密封箱还有利于改善炉温均匀性。
  收蜡系统采用我司独特结构,积储胶、过滤、粗净化、精净化等多种功能于一体的收蜡系统。
3、完善有真空系统:
    保证在任何状态下,真空的密封性。
    炉内压力实现定值或程序控制,实现分压烧结,抑制挥发,改善产品致密性及质量。
先进的自动控制及可靠的安全联锁:
以进口智能化温控仪、可控硅电压调整器、低压变压器、无纸纪录仪为核心构成包括供电、控制、监视、纪录、报警保护功能在内的电控系统。
4、高效率的快冷系统:
    高效换热技术,冷却快速均匀,从950℃至150℃小于210m
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产品型号规格 SY-TVHDS4/4/10 SY-TVHDS5/5/15 SY-TVHDS6/6/25 SY-TVHDS6/6/30 SY-TVHDS8/8/40
工作炉温 1250~2400℃
控温精度 ≤±5℃
升温速度 室温~2400℃,300分钟
额定电源 3相 AC380 50Hz
极限真空度 ≤7.0×10-1/7.0×10-3Pa
真空压升率 ≤0.67Pa/h
抽气时间 大气压至10Pa,10分钟
脱胶工艺 N2负压
烧结工艺 真空、气氛烧结、
冷却工艺 真空、强制(86KPa)
冷却速度(空炉) 950℃至150℃,100分钟以内 950℃至150℃,150分钟以内
工作区尺寸
(W×H×L)
400×400×1000 mm 500×500×1500 mm 600×600×2500 mm 600×600×3000 mm 800×800×4000 mm
控温系统配置 采用日本SHIMADEN/英国EUROTHERM可编程调节器
真空系统配置 旋片式真空泵/滑阀泵+罗茨真空泵+扩散泵(可选)
根据客户需要,可升级配置
1、加配油扩散泵,极限真空度可达7.0×10-3Pa。
2、可配PLC可编程控制器及图形操作终端(触摸屏)控制系统。

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