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硼化物陶瓷作为结构材料时，硼化物基超高温陶瓷材料的烧结致密化方法主要有无压烧结法、热压烧结(HP)、反应烧结法和放电等离子体烧结法(SPS)。
① 热压烧结法
因为硼化物超高温陶瓷具有很强的共价键、低的自扩散率，使其必须在高温高压的环境下才能烧结致密化。但在目前的研究文献中，很少有关于纯的硼化物的热压烧结，因为通过添加烧结助剂可以大大地降低烧结温度，提高烧结致密性。硼化物超高温陶瓷烧结过程中的添加剂主要有两种，一种是金属添加剂（Al、Cr、Ni等），另一种是以SiC为主的陶瓷添加剂。
② 无压烧结
无压烧结比热压烧结效率更高而且更加经济，两者都可以通过添加烧结助剂和细化原料粒径来促进烧结致密化。但相对于通过细化原料粒径来提高烧结致密性的方法而言，添加烧结助剂的方法更为简单有效。
③ 反应烧结
反应烧结的原理是利用原始材料之间的化学反应，再生成热力学稳定的新相，同时完成烧结致密化。这样可以极大提高生产效率，节约成本，但是同时具备反应过程不易控制，得到晶粒相对粗大的缺点。
④ 放电等离子体烧结(SPS)
放电等离子烧结相对比于前面几种烧结致密化方法出现较晚，但现在已经被广泛用于各种超高温陶瓷材料的烧结致密化。
硼化物超高温陶瓷涂层的制备
当硼化物陶瓷作为功能材料时，硼化物基超高温陶瓷涂层的主要制备方法有包埋法、料浆法、气相沉积法和热喷涂法。
① 包埋法
包埋法制备陶瓷涂层时间较早，技术较为成熟。其工艺为将基体试样置于混合好的固体粉末中，在高温条件下，基体试样与固体粉末相互扩散，进而发生复杂的物理化学反应，从而在基体表面形成涂层。包埋混合物包括四个部分：基体、含有涂层元素的粉末、卤化物(NaCl、NaF等)、活性剂(Al₂O₃、B₂O₃等)，包埋法制备硼化物陶瓷基涂层的工艺简单，所得涂层较为致密，与基体结合紧密牢固，但是制得涂层的厚度难以控制，涂层容易出现不均匀现象。
② 料浆法
料浆法制备硼化物基超高温陶瓷涂层先将硼化物粉末与粘结剂(清漆，PVB胶等)混成料浆，涂覆在基体表面，在惰性气体或者真空的环境下固相或液相烧结，在基体表面形成涂层。
③ 气相沉积法
气相沉积法主要分为物理气相沉积法(PVD)和化学气相沉积法(CVD)，两种沉积方法都可以在基体材料表面沉积出一层致密、与基体结合牢固、厚度可控的硼化物陶瓷涂层。PVD法是在真空条件下，用电子枪熔化并蒸发陶瓷坯料，蒸气沉积到基体表面形成涂层；而CVD法是将合成硼化物陶瓷的原材料气化，让其在基体材料表面发生化学反应从而沉积出硼化物陶瓷薄膜。
PVD法制备硼化物基陶瓷涂层一般应用于各类金属切削刀具的表面。虽然PVD方法制备出的陶瓷涂层均匀致密，与基体结合力好，但是相对于其它的涂层制备方法，其沉积效率太低，难以制备较厚的涂层。而CVD法将原始材料直接制成涂层，较PVD法生产效率更高。
④ 热喷涂法
热喷涂法是一种极具前景的表面改性方法，具有沉积速度快、涂层厚度精确可控等独特的优势。近几年来，在制备ZrB2、TiB2、CrB2等硼化物陶瓷涂层方面得到了迅速发展。热喷涂按照其热源的不同可以分为很多类，目前常用于制备硼化物陶瓷涂层的主要是爆炸喷涂、等离子喷涂和激光喷涂。
爆炸喷涂是将氧气和乙炔按一定比例混合后引爆，爆炸瞬间释放的能量使料粉熔融并高速撞击基体表面形成涂层。
激光喷涂又称激光熔覆，将覆材粉末迅速熔化并同时熔化基体表面微区，涂层和基体形成牢固的冶金结合，激光喷涂对于涂层材料不受限制，是一种理想的硼化物超高温陶瓷涂层的制备方法。然而目前激光熔覆技术并不成熟，由于加热速度和冷却速度极快，覆材和基体材料温度梯度和热膨系数的不同，这可能导致在涂覆过程中形成微裂纹、孔洞影响涂层质量。
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