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二硅化铪

  • 分子量: 234.66
  • 颜 色: 灰 色
  • 密 度: 8.02g/cm3
  • 熔 点: 1680℃
  • 硅含量: ≥23.7%
  • 游离硅: <0.01%
■ 产品概述
二硅化铪(HfSi2)是一种过渡金属硅化物,是一类难熔的金属间化合物,因其独特的物理和化学性质而被应用于金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。
陶瓷基复合材料(C/C、C陶)是一种兼有金属材料、陶瓷材料和碳材料性能优点的热结构/功能一体化新型材料,具有耐高温、低密度、高比强、高比模、抗氧化、抗烧蚀、对裂纹不敏感,不发生灾难性毁损等特点,在机械、航空航天、核、能源等领域有着广泛的应用。
 C/C 复合材料作为热结构材料可用于燃气涡轮发动机结构部件、航天飞机的鼻锥帽、机翼前缘等,这些部件大都在高温和氧化的环境下工作。然而,C/C 复合材料容易氧化,通常不能在高于400 ℃的氧化气氛中正常服役。这就要求对C/C 复合材料进行合适的抗氧化保护,C/SiC复合材料材料中原位合成难熔金属碳化物(HfC、HfC、TaC)可明显提高其抗烧蚀性能,主要机理可归纳为抑制氧化作用、增强基体抗冲刷性能和弥补烧蚀后的缺陷,HfSi2可作为原位合成HfC的Hf源。
性能特点:
1、纯度高:XRD检测无杂质相,或HfSi2+Si>99%、氧含量低(XRD检测不含HfO2相),融渗反应温度低,产品密度好,无空洞;
2、分布集中:粒度标准正态分布,无双峰或者多峰,可以根据客户需求设计粒度分布范围;
 
■ 技术参数

二硅化铪-技术参数表

HfSi2(1.0-3.0um)_00

 

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